Thiết bị đo đạc và phân tích
THIẾT BỊ NHIỄU XẠ TIA X – D5000 - GHI GIẢN ĐỒ NHIỄU XẠ, PHÂN TÍCH PHA VÀ CẤU TRÚC TINH THỂ

01/03/2012 12:24 CH

I. GIỚI THIỆU

‎Thiết bị Nhiễu xạ tia X D5000 do hãng SIEMENS, CHLB Đức sản xuất. Nhiễu xạ tia X được dùng trong việc:
     - Phân tích định tính, bán định lượng các pha tinh thể,
     - Phân tích cấu trúc và xác định các giá trị hằng số mạng tinh thể,
     - Xác định kích thước hạt tinh thể và phân bố hạt cho các tinh thể có kích thước cỡ nm.

II. ĐẶC TÍNH

     - Bức xạ tia X: Cu ka, l = 1,54056,
     - Thiết bị có hai loại đầu thu: đầu thu bán dẫn Si(Li) và đầu thu nhấp nháy,
     - Đo trên các mẫu dạng khối, bột, màng mỏng
     - Khảo sát In-situ trong nhiệt độ cao (25oC-1400oC), trong các môi trường: chân không, không khí, O2,Ar và N2.
 

III. GIỚI HẠN ĐO

     - Khoảng một vài % khối lượng cho phân tích pha tinh thể (tuỳ theo vật liệu).
     - Chính xác đến 10-3 cho kết quả xác định hằng số mạng.
     - Xác định được kích thước hạt tinh thể khoảng vài nm đến ≤ 100nm.
     - Góc quét: 0,2o đến 150o.
     - Sai số nhiệt độ trong khảo sát In-situ: ±1oC.
 

Bài viết liên quan

tìm kiếm
Thông báo
khoa học & công nghệ
Liên kết website
Lượt truy cập
Hôm nay: 14
Lượt truy cập: 329243